PARAPUANG.com – Pertanyaan mengenai keamanan skincare untuk perempuan yang sedang program hamil (promil), ibu hamil (bumil) dan ibu menyusui (busui) terus menjadi perbincangan.
Banyak yang khawatir produk perawatan kulit bisa membahayakan janin atau bayi, sehingga memilih berhenti total dari rutinitas kecantikan itu.
Namun menurut dr. Tronny Astriningdyah, M. Kes (A3M), dipl. AAAM, owner Astri Clinic and Medical Spa, anggapan itu tidak sepenuhnya benar.
“Skincare selama masa promil, kehamilan, dan menyusui bisa digunakan, asalkan kandungannya tepat dan dosisnya aman. Jangan langsung takut, tetapi pilih yang benar-benar telah terbukti aman,” jelasnya.
Dokter Tronny menegaskan tidak semua bahan skincare dilarang, beberapa kandungan justru aman dan mendukung kesehatan kulit.
“Jika dalam kondisi sedang promil, mengandung atau menyusui sebaiknya hindari Skincare yang mengandung retinoid (retinol, tretinoin, adapalene), hydroquinone dan asam salisilat konsentrasi tinggi,” sebutnya.
Adapun skincare yang aman digunakan yakni yang mengangdung bahan niacinamide, hyaluronic acid, ceramide dan serta sunscreen mineral (zinc oxide, titanium dioxide).
Ia menyarankan bagi perempuan yang sedang promil untuk menghindari skincare dengan efek hormonal, pilih pelembap lembut dan sunscreen mineral.
“Untuk Bumil gunakan skincare yang berfokus pada perlindungan kulit, gunakan pelembap ringan dan produk non-iritan. Sementara untuk ibu menyusui skincare relatif aman, asal tidak terjadi kontak langsung dengan mulut bayi,” bebernya.
Dokter Tronny membagi beberapa tips dalam memilih skincare yang tepat, diantaranya selalu periksa label kandungan produk, pilih skincare dengan label pregnancy safe, konsultasikan ke dokter jika ragu dan lakukan patch test sebelum pemakaian rutin.
“Kuncinya adalah selektif memilih produk dan mengutamakan keamanan, dengan pemilihan yang tepat, ibu tetap bisa menjaga kesehatan kulit tanpa mengorbankan keselamatan bayi,” tutup dr. Tronny. (*)
Penulis : Nurwahida

Tinggalkan Balasan
Anda harus masuk untuk berkomentar.